Электронная промышленность
Дифрактометр высокого разрешения ДРОН-8Т
В современной электронной промышленности, которая очень активно развивается в нашей стране в 21 веке, необходимо решать задачи по разработке и производству новой электронной и лазерной техники, в том числе лазерных технологических установок, полупроводниковых и твердотельных лазеров, лазерных дальномеров и целеуказателей для высокоточного оружия, лазерных гироскопов различного типа и назначения, а также навигационных блоков на их основе.
Основным назначением дифрактометра с высоким угловым разрешением является анализ кристаллического строения тонких пленок, широко применяющихся в электронной промышленности, а именно, определять состав, толщину и рассогласование слоев в эпитаксиальных и наногетероструктурах, строить карты обратного пространства и моделировать их структуры по рефлектометрическим кривым.
Второй, не менее важной задачей, актуальной для разработок электронных и лазерных устройств, является определение ориентации и анализ качества монокристаллов по кривым качания.
Эти специфические задачи являются одной из самых важных составляющих при сертификации электронных и лазерных компонент на основе монокристаллов и тонких пленок и решаются они только на дифрактометре, имеющем высокие точностные характеристики.
Объекты | Задачи |
Монокристаллы и изделия из них | - Определение ориентации и качества - Анализ метрики решетки |
Тонкие пленки, эпитаксиальные наногетероструктуры | - Анализ состава, толщины и шероховатости - Анализ рассогласования слоев - Анализ метрики решетки |
Универсальные моторизованные держатели монохроматоров, разработанные для дифрактометра, позволяют устанавливать на первичный и/или дифрагированный пучок плоские или прорезные кристаллы из разных материалов (Ge, Si, SiO2, LiF и т.д.) с любой ориентацией (111, 100, 110 и т.д.). При этом будет происходить монохроматизация любого излучения (от Mo до Cr) с удалением фона и β-составляющей, а при использовании двух прорезных кристалла-монохроматора – с выделением чистой Kα1 линии с интенсивностью более 1.5 млн. имп/с и угловым разрешением не хуже 12 угл.сек.
Для прецизионного определения ориентации монокристаллов, а также для построения карт обратного пространства для тонких пленок разработана серия опционных приставок. В зависимости от размеров исследуемых объектов дифрактометр может быть оснащен как одноосной приставкой со столиком диаметром 100 мм и весом до 2 кг, так и четырехосным держателем больших образцов, на который можно установить кристаллическую булю диаметром до 200 мм и весом до 50 кг.
Дифрактометр может быть укомплектован одновременно двумя предустановленными системами регистрации, одна из которых базируется на высокоскоростном сцинтилляционном детекторе, другая – на линейном позиционно-чувствительном детекторе с 640 независимыми каналами. Первая система используется для регистрации кривых качания при анализе ориентации и качества монокристаллов, вторая – для построения карт обратного пространства и для экспрессного измерения рефлектометрических кривых.